PULS LASER DEPOZİSYON SİSTEMİ

Puls laser depozisyon (PLD) sistemi ince film üretimi için tasarlanmış evyapımı kullanıcı dostu bir sistemdir. PLD sistemi kullanılarak bulk malzeme bir alt tabaka üzerine ince bir katman olarak kaplanabilmektedir [1].

Puls Laser Depozisyon (PLD) tekniği [1] çok yönlü ve kolay uygulanabilirliği açısından metal, karbon, yarıiletken, seramik gibi çeşitli malzemelerden ince film yapıların elde edilmesi için kullanılmakta olan yöntemler arasında en yaygın olarak kullanılanlarından birisidir. Bu doğrultuda fullerene C₆₀ [3] molekülü hedef olarak kullanıldığında PLD tekniğinde oldukça verimli sonuçlar alınmaktadır. 

Bu sistem kullanılarak pellet haline getirilmiş C₆₀ numunesi ve silika cam üzerine kaplanmıştır.  Çeşitli alt tabaka sıcaklıklarında büyütülen ince film yapıların optik ve bazı elektronik özellikleri incelenmiş ve sonuçlar ortaya konulmuştur [3].

Bu PLD sistemindeki numune tutucu ve alt tabaka tutucu iki adet step motor ile homojen ve arzulanan sabit hızlarla döndürülmektedir. Aynı zamanda alt tabaka, 4-1000 C arasında değerlere ısıtabilecek şekilde tasarlanmıştır ve sıcaklığın kontrol altında tutulabilmesi için de soğutma sistemi kullanılmaktadır. Soğutma sistemi ile alt tabaka 4 C değerine kadar soğutulabilmektedir [1-2].

Sistem, numune alt tabaka ısısını (Optris 3MH1-CF3 model infrared termometre) sürekli olarak monitörize etmekte ve ince film üretim süresince alt tabaka sıcaklığı sürekli gözleme imkânı vermektedir. Diğer taraftan, mevcut sistem, ince film depozisyonu süresince, depozit edilen ince filmin kalınlığını in-situ olarak sürekli ölçme/monitörize etme özelliğine sahip bir şekilde tasarlanmıştır. Kalınlık ölçüm bilgisi, MPROBE VIS (Semiconsoft, Inc.) ürünü kullanılarak gerçekleştirilmektedir. 

Sisteme bağlı aparatlar:

-In Situ Sıcaklık Ölçüm Sistemi

-In Situ Kalınlık Ölçüm Sistemi

-Alttabaka ve Isıtma-Soğutma Mekanizması